"Nano Yapılandırma (Nanopatterning)" arama sonuçları 6 sonuç
Analiz

Arama terimi "Nano Yapılandırma (Nanopatterning)" için toplam 6 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "NANO DROP SPECTROFOTOMETRE" (Marka/Model: ND1000). Bu cihaz temel olarak "Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır." amacıyla kullanılıyor. Sonuçlar 6 farklı kategoriden cihazları içeriyor: Biyoteknoloji Laboratuvarı, PM_Proje Odası, Klinik Öncesi Bilimler, 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı, Tanecik Karakterize, Temiz Oda. Bu da aramanızın birden fazla cihaz türüyle ilgili olduğunu gösteriyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.

NANO DROP SPECTROFOTOMETRE En uygun

ND1000 · Biyoteknoloji Laboratuvarı

1.33 puan

Kullanım amacı

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Yapılan analizler

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Teknik özellikler

Aktif Dış kullanım kapalı
Tobii Pro NANO Göz İzleme Cihazı

Tobii Pro NANO · PM_Proje Odası

1.28 puan

Kullanım amacı

Kullanıcı Deneyimi ve Algısal AnalizlerTasarım ÇalışmalarıDoğa ve Çevre Algısı Üzerine AraştırmalarAkademik Çalışmalar ve Eğitim

Yapılan analizler

Göz İzleme Analizi

Teknik özellikler

Göz izleme özellikleri: Korena yansıması, çift göz, “dark pupil” tekniğiÖrneklem Hızı: 60 HzAccuracy: 0.3° Hassalık: 0.10° Çift göz takibi: Evet Genişlik ve Yükseklik: 35 cm x 30 cm Çalışma mesafesi: 45-85 cm Maximum ekran boyutu: 19''Toplam Sistem Gecikmesi: 17 ms Göz kırpma iyileşme süresi: 1Bakış (Odaklanma) süresi: 250 ms Veri çıkışı (her bir göz için): Zaman damgası, Bakış kökeni, Bakış noktası, Göz bebeği çapı, Geçerlilik kodu

Aktif Dış kullanım kapalı
Nano Drop 2000 spektrofotometre

Thermo Scientific · Klinik Öncesi Bilimler

1.15 puan

Kullanım amacı

Protein, DNA, RNA miktarının ölçülmesi

Yapılan analizler

Moleküler işlemlerde

Teknik özellikler

Absorbans Doğruluğu: 0,74 A'da 10 ayrı ölçümün 0,002 *SD'si Absorbans Aralığı: 0 ila 300 A Sertifikalar/Uyumluluk:UL/CSA ve CE Bağlantılar:USB Algılama Aralığı :2 ila 15.000 ng/μL (dsDNA), 0,10 - 400 mg/mL (BSA) Dedektör Tipi:2048 elemanlı Doğrusal Silikon CCD Dizisi Işık kaynağı:Xenon Flaş Tip:Mikrohacim Spektrofotometresi Gerilim:12 VDC Dalga boyu aralığı:190 ila 840 nm Ayak izi:14x20 cm (Uygulama) ile Kullanım İçin:Nükleik asit, protein, hücre kültürü ve özel yöntemler Ölçüm Zamanı:

Aktif Dış kullanım kapalı
Bilyalı Öğütücü

Nano / Multimix · 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı

1.05 puan

Kullanım amacı

Nano Ölçekli ÖğütmeHomojen Karışım HazırlamaYüksek Enerjili Öğütme ProsesleriMalzeme Bilimi Araştırmalarıİlaç ve Kimya Sektöründe Partikül Boyutu Azaltma

Yapılan analizler

Partikül Boyutu Dağılımı AnalizleriMalzeme Homojenliği TestleriMekanik Alaşımlama ÇalışmalarıNanomalzeme ÜretimiKimyasal Reaksiyonların Hızlandırılması

Teknik özellikler

Öğütme Kapasitesi: 50 ml x 2 hazneÖğütme Hızı: Yüksek G kuvveti ile mikron altı (nano) öğütmeUygulamalar: Mikron altı öğütme ve homojen karışımlar elde etme

Aktif Dış kullanım kapalı
Dinamik Işık Saçılım Cihazı-DLS

Malvern Nano-ZS · Tanecik Karakterize

0.91 puan

Kullanım amacı

Partiküllerin boyutunu ve zeta potansiyelini belirlemek amacıyla kullanılır.

Yapılan analizler

DLS 01 Parçacık Boyutu Analizi,  DLS 02 Zeta Potansiyel ve Mobilite Analizi DLS 03 İzoelektrik Nokta Belirlenmesi

Teknik özellikler

Parçacık: 0.3nm – 6.0 mikron,  Zeta potansiyel:3.8nm – 100 mikron (çap),  0°C – 90°C +/-0.1, 

NanoNenovezikülSekrotomMikrovekülNanopartikülSentezGümüş nanopartikül
Aktif Dış kullanım açık
Maskesiz Litografi

Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express · Temiz Oda

0.9 puan

Kullanım amacı

Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar.

Yapılan analizler

TO 12 Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13 Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik özellikler

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)Fotolitografi (Photolithography)UV Litografi (UV Lithography)Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)Nano Yapılandırma (Nanopatterning)Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)Optik Litografi (Optical Lithography)
Aktif Dış kullanım açık