Maskesiz Litografi - Cihaz Detayı

Maskesiz Litografi

İLTEK Temiz Oda Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express

Aktif Cihaz Dış Kullanıma Açık Araştırmaya Açık Analize Açık

Temel Alanlar

Fen Bilimleri ve Matematik

Mühendislik Temel Alanı

Anahtar Kelimeler

Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)

Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)

Fotolitografi (Photolithography)

UV Litografi (UV Lithography)

Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)

Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)

Nano Yapılandırma (Nanopatterning)

Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)

Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)

Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)

Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)

Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)

Optik Litografi (Optical Lithography)

Kullanım Amacı

Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar.

Yapılan Analizler

TO 12 Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13 Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik Özellikler

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Laboratuvarlar

52

Birim (Laboratuvar)

123

Alt Birim

150

Laboratuvar

3901

Cihaz