"Nano" arama sonuçları 10 sonuç
Analiz

Arama terimi "Nano" için toplam 10 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "NANO DROP SPECTROFOTOMETRE" (Marka/Model: ND1000). Bu cihaz şu nedenlerle öne çıktı: cihaz adi alanında yüksek benzerlik. Bu cihaz temel olarak "Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır." amacıyla kullanılıyor. Sonuçlar 7 farklı kategoriden cihazları içeriyor: Biyoteknoloji Laboratuvarı, PM_Proje Odası, Klinik Öncesi Bilimler, 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı, Tanecik Karakterize, Temiz Oda, Görüntüleme. Bu da aramanızın birden fazla cihaz türüyle ilgili olduğunu gösteriyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.

NANO DROP SPECTROFOTOMETRE En uygun

ND1000 · Biyoteknoloji Laboratuvarı

2.31 puan

Kullanım amacı

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Yapılan analizler

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Teknik özellikler

Aktif Dış kullanım kapalı
Tobii Pro NANO Göz İzleme Cihazı

Tobii Pro NANO · PM_Proje Odası

2.21 puan

Kullanım amacı

Kullanıcı Deneyimi ve Algısal AnalizlerTasarım ÇalışmalarıDoğa ve Çevre Algısı Üzerine AraştırmalarAkademik Çalışmalar ve Eğitim

Yapılan analizler

Göz İzleme Analizi

Teknik özellikler

Göz izleme özellikleri: Korena yansıması, çift göz, “dark pupil” tekniğiÖrneklem Hızı: 60 HzAccuracy: 0.3° Hassalık: 0.10° Çift göz takibi: Evet Genişlik ve Yükseklik: 35 cm x 30 cm Çalışma mesafesi: 45-85 cm Maximum ekran boyutu: 19''Toplam Sistem Gecikmesi: 17 ms Göz kırpma iyileşme süresi: 1Bakış (Odaklanma) süresi: 250 ms Veri çıkışı (her bir göz için): Zaman damgası, Bakış kökeni, Bakış noktası, Göz bebeği çapı, Geçerlilik kodu

Aktif Dış kullanım kapalı
Nano Drop 2000 spektrofotometre

Thermo Scientific · Klinik Öncesi Bilimler

2 puan

Kullanım amacı

Protein, DNA, RNA miktarının ölçülmesi

Yapılan analizler

Moleküler işlemlerde

Teknik özellikler

Absorbans Doğruluğu: 0,74 A'da 10 ayrı ölçümün 0,002 *SD'si Absorbans Aralığı: 0 ila 300 A Sertifikalar/Uyumluluk:UL/CSA ve CE Bağlantılar:USB Algılama Aralığı :2 ila 15.000 ng/μL (dsDNA), 0,10 - 400 mg/mL (BSA) Dedektör Tipi:2048 elemanlı Doğrusal Silikon CCD Dizisi Işık kaynağı:Xenon Flaş Tip:Mikrohacim Spektrofotometresi Gerilim:12 VDC Dalga boyu aralığı:190 ila 840 nm Ayak izi:14x20 cm (Uygulama) ile Kullanım İçin:Nükleik asit, protein, hücre kültürü ve özel yöntemler Ölçüm Zamanı:

Aktif Dış kullanım kapalı
Bilyalı Öğütücü

Nano / Multimix · 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı

1.82 puan

Kullanım amacı

Nano Ölçekli ÖğütmeHomojen Karışım HazırlamaYüksek Enerjili Öğütme ProsesleriMalzeme Bilimi Araştırmalarıİlaç ve Kimya Sektöründe Partikül Boyutu Azaltma

Yapılan analizler

Partikül Boyutu Dağılımı AnalizleriMalzeme Homojenliği TestleriMekanik Alaşımlama ÇalışmalarıNanomalzeme ÜretimiKimyasal Reaksiyonların Hızlandırılması

Teknik özellikler

Öğütme Kapasitesi: 50 ml x 2 hazneÖğütme Hızı: Yüksek G kuvveti ile mikron altı (nano) öğütmeUygulamalar: Mikron altı öğütme ve homojen karışımlar elde etme

Aktif Dış kullanım kapalı
Dinamik Işık Saçılım Cihazı-DLS

Malvern Nano-ZS · Tanecik Karakterize

1.58 puan

Kullanım amacı

Partiküllerin boyutunu ve zeta potansiyelini belirlemek amacıyla kullanılır.

Yapılan analizler

DLS 01 Parçacık Boyutu Analizi,  DLS 02 Zeta Potansiyel ve Mobilite Analizi DLS 03 İzoelektrik Nokta Belirlenmesi

Teknik özellikler

Parçacık: 0.3nm – 6.0 mikron,  Zeta potansiyel:3.8nm – 100 mikron (çap),  0°C – 90°C +/-0.1, 

NanoNenovezikülSekrotomMikrovekülNanopartikülSentezGümüş nanopartikül
Aktif Dış kullanım açık
Spin Kaplama

Laurell WS-400BZ-6NPP-LITE · Temiz Oda

0.6 puan

Kullanım amacı

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan analizler

TO 04     Spin Kaplama

Teknik özellikler

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Aktif Dış kullanım açık
Spin Kaplama Litografi

LAURELL/WS-650MZ-23 NPPB · Temiz Oda

0.6 puan

Kullanım amacı

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan analizler

Teknik özellikler

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Aktif Dış kullanım açık
Glove-Box-Spin Kaplama

Mbraun · Temiz Oda

0.6 puan

Kullanım amacı

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan analizler

TO 05     Glove Box Sisteminde Spin Kaplama

Teknik özellikler

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Aktif Dış kullanım açık
Geçirimli Elektron Mikroskobu (TEM)

JEOL/JEM-2100 · Görüntüleme

0.54 puan

Kullanım amacı

JEM-2100, 200 kV hızlandırıcı gerilim kapasitesine sahip, yüksek çözünürlüklü görüntüleme ve hassas analiz yetkinliklerini bünyesinde barındıran çok amaçlı bir Analitik Geçirimli Elektron Mikroskobudur (TEM). Cihaz, malzeme bilimi ve yaşam bilimleri araştırmalarında ileri düzey karakterizasyon olanakları sunmaktadır. Temel Uygulama ve Karakterizasyon Alanları Nanoyapısal ve Kristalografik Analiz: Materyallerin iç yapılarının atomik ölçekte görüntülenmesi; kristal sistemlerinin, kafes kusurlarının, tane sınırlarının ve faz arayüzlerinin yüksek çözünürlükte incelenmesi. Nanomalzeme Karakterizasyonu: Nanometre ölçeğindeki sentezlenmiş veya doğal malzemelerin morfolojik özelliklerinin ve yapısal bütünlüklerinin tayini. Elementel ve Kimyasal Kompozisyon: Enerji Dağılımlı X-Işını Spektroskopisi (EDS/EDX) gibi entegre tekniklerle, numunelerin kalitatif ve kantitatif kimyasal analizi ile elementel dağılım haritalandırılması. Biyomedikal ve Biyolojik Araştırmalar: Hücresel organellerin, viral partiküllerin, bakteriyel ultrastrüktürlerin ve diğer biyolojik makromoleküllerin yüksek kontrastlı yapısal analizi.

Yapılan analizler

TEM 04 TEM Analizi , EDX Mapping Analizi EDX Point ve Çizgisel Analiz STEM Analizi SAD Analizi

Teknik özellikler

200 kV Hızlandırma gerilimi, LaB6 elektron tabancası, 0,1 nm çözünürlük, PC kontrol sistemine entegre STEM (Tarama İletim Elektron Mikroskobu: opsiyonel) fonksiyonu, 0,28sr katı açılı EDS (Enerji Dağıtıcı X-ışını Spektrometresi) (50mm2 dedektörlü HR konfigürasyonunda)

TEMNanogörüntülemeKristal Yapı AnaliziMikroyapı AnaliziFaz AnaliziAtomik Düzeyde GörüntülemeLattice Fringe AnaliziKristal Yönelimi ve Yapısal AnalizDislokasyon ve Kusur AnaliziNano Parçacık Morfolojisi ve Boyut DağılımıAmorf ve Kristal Yapı AyrımıSeçili Bölge Elektron Difraksiyonu (SAED)Elementel Analiz (EDS/EDX ile)
Aktif Dış kullanım açık
Maskesiz Litografi

Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express · Temiz Oda

0.52 puan

Kullanım amacı

Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar.

Yapılan analizler

TO 12 Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13 Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik özellikler

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)Fotolitografi (Photolithography)UV Litografi (UV Lithography)Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)Nano Yapılandırma (Nanopatterning)Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)Optik Litografi (Optical Lithography)
Aktif Dış kullanım açık