"Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)" arama sonuçları 3 sonuç
Analiz

Arama terimi "Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)" için toplam 3 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "Maskesiz Litografi" (Marka/Model: Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express). Bu cihaz şu nedenlerle öne çıktı: cihaz adi alanında yüksek benzerlik, anahtar kelime alanında yüksek benzerlik. Bu cihaz temel olarak "Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar." amacıyla kullanılıyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.

Maskesiz Litografi En uygun

Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express · Temiz Oda

7.74 puan

Kullanım amacı

Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar.

Yapılan analizler

TO 12 Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13 Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik özellikler

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)Fotolitografi (Photolithography)UV Litografi (UV Lithography)Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)Nano Yapılandırma (Nanopatterning)Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)Optik Litografi (Optical Lithography)
Aktif Dış kullanım açık
Spin Kaplama Litografi

LAURELL/WS-650MZ-23 NPPB · Temiz Oda

1.15 puan

Kullanım amacı

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan analizler

Teknik özellikler

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Aktif Dış kullanım açık
Optik Mikroskop

MOTIC/B3 Serisi · Temiz Oda

0.61 puan

Kullanım amacı

Litografi sistemi ile desenlenen yüzeylerin incelenmesi

Yapılan analizler

Teknik özellikler

10X / 40X / 100X Büyütme

Aktif Dış kullanım açık