Yerel vektör benzerliği ile analiz yapılır.
Arama terimi "Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)" için toplam 10 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "Spin Kaplama" (Marka/Model: Laurell WS-400BZ-6NPP-LITE). Bu cihaz şu nedenlerle öne çıktı: anahtar kelime alanında yüksek benzerlik. Bu cihaz temel olarak "Çözelti Fazında İnce Film Kaplama" amacıyla kullanılıyor. Sonuçlar 4 farklı kategoriden cihazları içeriyor: Temiz Oda, 332 no’lu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı, Farmasötik Teknoloji, Görüntüleme. Bu da aramanızın birden fazla cihaz türüyle ilgili olduğunu gösteriyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.
Laurell WS-400BZ-6NPP-LITE · Temiz Oda
Kullanım amacı
Çözelti Fazında İnce Film Kaplama
Yapılan analizler
TO 04 Spin Kaplama
Teknik özellikler
Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm
Mbraun · Temiz Oda
Kullanım amacı
Çözelti Fazında İnce Film Kaplama
Yapılan analizler
TO 05 Glove Box Sisteminde Spin Kaplama
Teknik özellikler
Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm
LAURELL/WS-650MZ-23 NPPB · Temiz Oda
Kullanım amacı
Çözelti Fazında İnce Film Kaplama
Yapılan analizler
Teknik özellikler
Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm
Laurell · 332 no’lu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı
Kullanım amacı
Döndürerek kaplama
Yapılan analizler
Yüzey kaplamada
Teknik özellikler
1-60 saniye 100-500 rpm hızlarda dönerek, 5 bar vakumda kaplama
Pharmatest Cp-9 · Farmasötik Teknoloji
Kullanım amacı
Farklı tipte tabletlerin, peletlerin ve granüllerin kaplama işlemlerini gerçekleştirmek.
Yapılan analizler
Farklı tipte tabletlerin, peletlerin ve granüllerin kaplama işlemlerini gerçekleştirmek.
Teknik özellikler
Toplam kapasite: 9.5 lt İşleme kapasitesi: 3 lt’ye kadar Dönme hızı: 5-45 devir/dk
CRESSINGTON/108auto-108carbon-A · Görüntüleme
Kullanım amacı
Numunelerin altı veya karbon ile kaplanması
Yapılan analizler
SEM 03 Numune altın kaplama SEM 04 Numune karbon kaplama
Teknik özellikler
Hazne boyutları 120mm x 120mm - Vakum 0.001mb İsteğe bağlı karbon ve altın kaplama
Nanovak / NVDT2-02 · Temiz Oda
Kullanım amacı
Organik yarıiletkenlerin ince film olarak kaplanması
Yapılan analizler
TO 06 Termal Evaporatör PVD
Teknik özellikler
İki adet termal kaynak
Vaksis · Temiz Oda
Kullanım amacı
Metal ve organik yarıiletkenlerin kaplanması
Yapılan analizler
Teknik özellikler
Bir adet sputter kaynağı, iki adet termal kaynak
LEYBOLD · Temiz Oda
Kullanım amacı
Metallerin buharlaştırılarak ince film olarak kaplanması
Yapılan analizler
TO 06 Termal Evaporatör PVD
Teknik özellikler
İki adet termal kaynak
Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express · Temiz Oda
Kullanım amacı
Intelligent Micro Patterning (IMP) SF-100 Express, fotolitografi süreçlerinde geleneksel fiziksel maske kullanımını ortadan kaldıran, yüksek hassasiyetli bir Maskesiz Fotolitografi (Maskless Lithography) sistemidir. Bu cihaz, dijital mikro-ayna teknolojisi (DLP) kullanarak ultraviyole (UV) ışığını doğrudan ışığa duyarlı reçine (fotoresist) üzerine yansıtarak mikro ölçekli desenleme yapar.
Yapılan analizler
TO 12 Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13 Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi
Teknik özellikler
1 Mikron Desenleme Hassasiyeti