"Nano" için Arama Sonuçları
10 sonuç
Analiz Sonucu

Arama terimi "Nano" için toplam 10 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "NANO DROP SPECTROFOTOMETRE" (Marka/Model: ND1000). Bu cihaz şu nedenlerle öne çıktı: cihaz adi alanında yüksek benzerlik. Bu cihaz temel olarak "Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır." amacıyla kullanılıyor. Sonuçlar 7 farklı kategoriden cihazları içeriyor: Biyoteknoloji Laboratuvarı, PM_Proje Odası, Klinik Öncesi Bilimler, 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı, Tanecik Karakterize, Temiz Oda, Görüntüleme. Bu da aramanızın birden fazla cihaz türüyle ilgili olduğunu gösteriyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.

NANO DROP SPECTROFOTOMETRE En Uygun
ND1000 | Biyoteknoloji Laboratuvarı
2.31 puan

Kullanım Amacı:

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Yapılan Analizler:

Örneklerin DNA ve RNA konsantrasyonunun belirlenmesinde kullanılır.

Teknik Özellikler:

Anahtar Kelimeler:
Tobii Pro NANO Göz İzleme Cihazı
Tobii Pro NANO | PM_Proje Odası
2.21 puan

Kullanım Amacı:

Kullanıcı Deneyimi ve Algısal AnalizlerTasarım ÇalışmalarıDoğa ve Çevre Algısı Üzerine AraştırmalarAkademik Çalışmalar ve Eğitim

Yapılan Analizler:

Göz İzleme Analizi

Teknik Özellikler:

Göz izleme özellikleri: Korena yansıması, çift göz, “dark pupil” tekniğiÖrneklem Hızı: 60 HzAccuracy: 0.3° Hassalık: 0.10° Çift göz takibi: Evet Genişlik ve Yükseklik: 35 cm x 30 cm Çalışma mesafesi: 45-85 cm Maximum ekran boyutu: 19''Toplam Sistem Gecikmesi: 17 ms Göz kırpma iyileşme süresi: 1Bakış (Odaklanma) süresi: 250 ms Veri çıkışı (her bir göz için): Zaman damgası, Bakış kökeni, Bakış noktası, Göz bebeği çapı, Geçerlilik kodu

Anahtar Kelimeler:
Nano Drop 2000 spektrofotometre
Thermo Scientific | Klinik Öncesi Bilimler
2 puan

Kullanım Amacı:

Protein, DNA, RNA miktarının ölçülmesi

Yapılan Analizler:

Moleküler işlemlerde

Teknik Özellikler:

Absorbans Doğruluğu: 0,74 A'da 10 ayrı ölçümün 0,002 *SD'si Absorbans Aralığı: 0 ila 300 A Sertifikalar/Uyumluluk:UL/CSA ve CE Bağlantılar:USB Algılama Aralığı :2 ila 15.000 ng/μL (dsDNA), 0,10 - 400 mg/mL (BSA) Dedektör Tipi:2048 elemanlı Doğrusal Silikon CCD Dizisi Işık kaynağı:Xenon Flaş Tip:Mikrohacim Spektrofotometresi Gerilim:12 VDC Dalga boyu aralığı:190 ila 840 nm Ayak izi:14x20 cm (Uygulama) ile Kullanım İçin:Nükleik asit, protein, hücre kültürü ve özel yöntemler Ölçüm Zamanı:

Anahtar Kelimeler:
Bilyalı Öğütücü
Nano / Multimix | 319 nolu Biyokimya Araştırma Laboratuvarı
1.82 puan

Kullanım Amacı:

Nano Ölçekli ÖğütmeHomojen Karışım HazırlamaYüksek Enerjili Öğütme ProsesleriMalzeme Bilimi Araştırmalarıİlaç ve Kimya Sektöründe Partikül Boyutu Azaltma

Yapılan Analizler:

Partikül Boyutu Dağılımı AnalizleriMalzeme Homojenliği TestleriMekanik Alaşımlama ÇalışmalarıNanomalzeme ÜretimiKimyasal Reaksiyonların Hızlandırılması

Teknik Özellikler:

Öğütme Kapasitesi: 50 ml x 2 hazneÖğütme Hızı: Yüksek G kuvveti ile mikron altı (nano) öğütmeUygulamalar: Mikron altı öğütme ve homojen karışımlar elde etme

Anahtar Kelimeler:
Dinamik Işık Saçılım Cihazı-DLS
Malvern Nano-ZS | Tanecik Karakterize
1.58 puan

Kullanım Amacı:

Partiküllerin boyutunu ve zeta potansiyelini belirlemek amacıyla kullanılır.

Yapılan Analizler:

DLS 01 Parçacık Boyutu Analizi,  DLS 02 Zeta Potansiyel ve Mobilite Analizi DLS 03 İzoelektrik Nokta Belirlenmesi

Teknik Özellikler:

Parçacık: 0.3nm – 6.0 mikron,  Zeta potansiyel:3.8nm – 100 mikron (çap),  0°C – 90°C +/-0.1, 

Anahtar Kelimeler: NanoNenovezikülSekrotomMikrovekülNanopartikülSentezGümüş nanopartikül
Spin Kaplama
Laurell WS-400BZ-6NPP-LITE | Temiz Oda
0.6 puan

Kullanım Amacı:

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan Analizler:

TO 04     Spin Kaplama

Teknik Özellikler:

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Anahtar Kelimeler: Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Spin Kaplama Litografi
LAURELL/WS-650MZ-23 NPPB | Temiz Oda
0.6 puan

Kullanım Amacı:

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan Analizler:

Teknik Özellikler:

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Anahtar Kelimeler: Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Glove-Box-Spin Kaplama
Mbraun | Temiz Oda
0.6 puan

Kullanım Amacı:

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan Analizler:

TO 05     Glove Box Sisteminde Spin Kaplama

Teknik Özellikler:

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Anahtar Kelimeler: Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
(Geçirimli Elektron Mikroskobu) (TEM)
JEOL / Jem 2100 | Görüntüleme
0.53 puan

Kullanım Amacı:

JEM-2100, çok amaçlı, 200 kV analitik geçirimli elektron mikroskobudur. Bu cihaz ile malzemelerin iç yapısını atomik ölçekte incelemek, kristal yapıları, kusurları, taneleri ve arayüzleri analiz etmek, nanomalzemelerin morfolojisini ve yapısını karakterize etmek, malzemelerin kimyasal bileşimini ve elementel dağılımını belirlemek, hücrelerin, virüslerin, bakterilerin ve diğer biyolojik malzemelerin yapısını incelemek mümkündür. 

Yapılan Analizler:

TEM 04 TEM Analizi , EDX Mapping Analizi EDX Point ve Çizgisel Analiz STEM Analizi SAD Analizi

Teknik Özellikler:

200 kV Hızlandırma gerilimi, LaB6 elektron tabancası, 0,1 nm çözünürlük, PC kontrol sistemine entegre STEM (Tarama İletim Elektron Mikroskobu: opsiyonel) fonksiyonu, 0,28sr katı açılı EDS (Enerji Dağıtıcı X-ışını Spektrometresi) (50mm2 dedektörlü HR konfigürasyonunda)  

Anahtar Kelimeler: TEMNanogörüntülemeKristal Yapı AnaliziMikroyapı AnaliziFaz AnaliziAtomik Düzeyde GörüntülemeLattice Fringe AnaliziKristal Yönelimi ve Yapısal AnalizDislokasyon ve Kusur AnaliziNano Parçacık Morfolojisi ve Boyut DağılımıAmorf ve Kristal Yapı AyrımıSeçili Bölge Elektron Difraksiyonu (SAED)Elementel Analiz (EDS/EDX ile)tem
Maskesiz Litografi
Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express | Temiz Oda
0.52 puan

Kullanım Amacı:

Fotoresist Desenleme

Yapılan Analizler:

TO 12     Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13     Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik Özellikler:

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Anahtar Kelimeler: Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)Fotolitografi (Photolithography)UV Litografi (UV Lithography)Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)Nano Yapılandırma (Nanopatterning)Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)Optik Litografi (Optical Lithography)