"Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)" için Arama Sonuçları
3 sonuç
Analiz Sonucu

Arama terimi "Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)" için toplam 3 cihaz bulundu. En yüksek eşleşme puanına sahip cihaz "Maskesiz Litografi" (Marka/Model: Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express). Bu cihaz şu nedenlerle öne çıktı: cihaz adi alanında yüksek benzerlik, anahtar kelime alanında yüksek benzerlik. Bu cihaz temel olarak "Fotoresist Desenleme" amacıyla kullanılıyor. Daha spesifik sonuçlar için teknik özelliklerle ilgili anahtar kelimeleri aramanıza ekleyebilirsiniz.

Maskesiz Litografi En Uygun
Intelligent Micro Patterning / SF-100 Express | Temiz Oda
6.48 puan

Kullanım Amacı:

Fotoresist Desenleme

Yapılan Analizler:

TO 12     Maskesiz Litografi, Fotorezist Kaplama, Softbake, Exposure ve Develop İşlemi TO 13     Maskesiz Litografi, Hardbake ve Etching İşlemi

Teknik Özellikler:

1 Mikron Desenleme Hassasiyeti

Anahtar Kelimeler: Maskesiz Litografi (Maskless Lithography)Doğrudan Yazma Litografi (Direct-Write Lithography)Fotolitografi (Photolithography)UV Litografi (UV Lithography)Dijital Mikro Ayna Cihazı (DMD - Digital Micromirror Device)Mikro Yapı Üretimi (Microstructure Fabrication)Nano Yapılandırma (Nanopatterning)Hızlı Prototipleme (Rapid Prototyping)Fotoduyarlı Polimerler (Photoresist Polymers)Yarı İletken İşleme (Semiconductor Processing)Fotorezist Kaplama (Photoresist Coating)Maskesiz Desen Transferi (Maskless Pattern Transfer)Optik Litografi (Optical Lithography)
Spin Kaplama Litografi
LAURELL/WS-650MZ-23 NPPB | Temiz Oda
1.15 puan

Kullanım Amacı:

Çözelti Fazında İnce Film Kaplama

Yapılan Analizler:

Teknik Özellikler:

Dönüş Hızı : 100 - 12000 rpm

Anahtar Kelimeler: Spin Coaterİnce Film Kaplama (Thin Film Coating)Döner Kaplama (Spin Coating)Çözelti Kaplama (Solution Coating)Dönme Hızı (Spin Speed)Kaplama Kalınlığı (Coating Thickness)Polimer Kaplama (Polymer Coating)Nano Kaplama (Nano Coating)Fotoresist Kaplama (Photoresist Coating)İnce Film Teknolojisi (Thin Film Technology)Homojen Kaplama (Uniform Coating)Döndürme Süresi (Spin Time)Substrat Hazırlama (Substrate Preparation)Yarı İletken Kaplama (Semiconductor Coating)Çok Katmanlı Kaplama (Multilayer Coating)
Optik Mikroskop
MOTIC/B3 Serisi | Temiz Oda
0.61 puan

Kullanım Amacı:

Litografi sistemi ile desenlenen yüzeylerin incelenmesi

Yapılan Analizler:

Teknik Özellikler:

10X / 40X / 100X Büyütme

Anahtar Kelimeler: